Рентгеноспектральные исследования аморфного металлического сплава Fe82Si4B14

Abstract

Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии исследовано электронное строение аморфного металлического сплава Fe82Si4B14. Установлено, что для аморфных сплавов Fe82Si4B14 характерно наличие окислённого поверхностного слоя с оценочной толщиной около 100 нм. Помимо связей C—C, в этом слое обнаружены связи, характерные для сложных углеродных соединений типа C=O. В окислённом слое бор и его соединения присутствуют в виде следов. Наблюдается значительная поверхностная сегрегация кремния, концентрация которого сохраняется постоянной как в окислённом слое, так и по исследуемой глубине ленты. Железо в окислённом слое представлено в основном оксидами. В объёме ленты обнаруживается присутствие карбида кремния SiC, а также незначительное количество кислорода и азота. Углерод на поверхности исследуемого аморфного металлического сплава находится в основном в окислённом состоянии, в то время как в объёме он находится в виде соединений с кремнием, по всей видимости, в виде карбида кремния.

Методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії досліджено електронну будову аморфного металевого сплаву Fe82Si4B14. Встановлено, що для аморфних сплавів Fe82Si4B14 характерна наявність окислені поверхневого шару з оціночної товщиною близько 100 нм. Крім зв'язків C-C, в цьому шарі виявлено зв'язку, характерні для складних вуглецевих з'єднань типу C = O. У окислені шарі бор та його сполуки присутні у вигляді слідів. Спостерігається значна поверхнева сегрегація кремнію, концентрація якого зберігається постійної як в окислені шарі, так і з досліджуваної глибині стрічки. Залізо в окислені шарі представлено в основному оксидами. В обсязі стрічки виявляється присутність карбіду кремнію SiC, а також незначна кількість кисню та азоту. Вуглець на поверхні досліджуваного аморфного металевого сплаву знаходиться в основному в окислені стані, в той час як в обсязі він знаходиться у вигляді сполук з кремнієм у вигляді карбіду кремнію.

By X-ray photoelectron spectroscopy was studied the electronic structure of amorphous metal alloy Fe82Si4B14. It is found that amorphous alloys characterized by Fe82Si4B14 okislёnnogo surface layer with an estimated thickness of about 100 nm. In addition to the C-C bonds in the layer detected communication characteristic of complex carbon compounds such as C = O. In okislёnnom layer of boron and its compounds present in trace amounts. There is a significant surface segregation of Si, the concentration of which is kept constant in okislёnnom layer and depth study on the tape. Iron in okislёnnom layer is represented mainly by oxides. The volume of the tape is detected the presence of silicon carbide SiC, as well as a small amount of oxygen and nitrogen. Carbon on the surface of the amorphous metal alloy is in a substantially okislёnnom state while it is in the amount of silicon compounds appear in the form of silicon carbide.