Показати скорочену інформацію

dc.contributor.authorКриночкін, Роман Володимировичuk
dc.contributor.authorНовіков, Анатолій Олександровичuk
dc.contributor.authorКриночкин, Роман Владимировичru
dc.contributor.authorНовиков, Анатолий Александровичru
dc.contributor.authorKrynochkin, Roman Volodymyrovychen
dc.contributor.authorNovikov, Anatolii Oleksandrovychen
dc.date.accessioned2016-01-05T10:53:20Z
dc.date.available2016-01-05T10:53:20Z
dc.date.issued2008-11-25
dc.identifier37466
dc.identifier.citationПат. 37466 UA, МПК C23C 14/00. Пристрій для випарування матеріалів [Текст] / Р. В. Криночкін, А. О. Новіков (Україна). - № u200808806 ; заявл. 04.07.2008 ; опубл. 25.11.2008, Бюл. № 22. - 2 с. : кресл.uk
dc.identifier.urihttp://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2846
dc.description.abstractПристрій для випарування матеріалів складається із технологічної камери, в якій розміщено тигель з встановленим над ним колектором пари, і розташованих ззовні послідовно функціонально з'єднаних нагрівника, мікропроцесорної системи керування нагрівником і системи контролю стану процесу. В нього введено ваговий тензометричний сенсор, розташований над технологічною камерою в окремому корпусі, з зондом, розміщеним всередині технологічної камери. При цьому вихід вагового тензометричного сенсора з'єднаний зі входом системи контролю стану процесу.uk
dc.description.abstractУстройство для выпаривания материалов состоит из технологической камеры, в которой размещено тигель с установленным над ним коллектором пара, и расположенных внешне последовательно функционально соединенных нагревателя, микропроцессорной системы управления нагревателем и системы контроля состояния процесса. В него введен массовый тензометрический сенсор, расположенный над технологической камерой в отдельном корпусе, с зондом, размещенным внутри технологической камеры. При этом выход массового тензометрического сенсора соединен с входом системы контроля состояния процесса.ru
dc.description.abstractA device for vaporization of materials comprises technological chamber, in which crucible with collector of vapor is placed, which installed over it, and functionally connected heaters located externally consistently, microprocessor control system of the heater and the control system of condition of process. Mass tensometric sensor is introduced into sand device, located over technology chamber in individual case, with arrangement, located inside of the technology chamber. At that outlet of mass tensometric sensor is connected to the input of control system of a condition of process.en
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherДержавне підприємство "Український інститут промислової власності" (УКРПАТЕНТ)uk
dc.subjectвакуумна технікаuk
dc.subjectC23C 14/00
dc.subjectвипаровування покритів у вакууміuk
dc.subjectнанесення покритів у вакууміuk
dc.titleПристрій для випарування матеріалівuk
dc.title.alternativeУстройство для выпаривания материаловru
dc.title.alternativeDevice for vaporation of materialsen
dc.typePatent


Файли в цьому документі

Thumbnail

Даний документ включений в наступну(і) колекцію(ї)

Показати скорочену інформацію