Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення

Abstract

Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, який оптично пов'язаний з фотоперетворювачем. Фотоперетворювач містить фоторезистор, біполярний та польовий транзистори, індуктивність, ємність і два джерела постійної напруги, причому перший полюс першого джерела постійної напруги підключений до бази біполярного транзистора, емітер якого з'єднаний з витоком і підкладкою польового транзистора, а колектор через фоторезистор з'єднаний із затвором польового транзистора і першим виводом індуктивності, до якого підключена перша вихідна клема, при цьому другий вивід індуктивності підключений до першого виводу ємності і першого полюса другого джерела постійної напруги, а другий полюс підключений до другого виводу ємності і другого полюса першого джерела постійної напруги, які утворюють загальну шину, до якої підключена друга вихідна клема пристрою.

Предлагаемое устройство для определения момента времени окончания процесса плазменного травления содержит узкополосный интерференционный фильтр и фотоэлектрический преобразователь. Фотоэлектрический преобразователь содержит фоторезистор, биполярный транзистор, полевой транзистор, конденсатор, катушку индуктивности и два источника постоянного напряжения. База биполярного транзистора соединена с первым выводом первого источника напряжения, эмиттер соединен со стоком и подложкой полевого транзистора, а коллектор соединен с затвором полевого транзистора, через фоторезистор, и первым выводом катушки индуктивности, который соединен с первым выходным контактным зажимом предлагаемого устройства. Второй вывод катушки индуктивности соединен с первым выводом конденсатора и первым выводом второго источника напряжения. Вторые выводы первого и второго источников напряжения соединены, образуя общую точку схемы электропитания предлагаемого устройства. Второй вывод конденсатора и второй выходной контактный зажим устройства соединен с указанной общей точкой.

The proposed device for determining the end of plasma etching process contains a narrow-band interference filter and a photoelectric converter. The photoelectric converter contains a photoresistor, a bipolar transistor, a field-effect transistor, a capacitor, an inductance coil, and two direct voltage sources. The base of the bipolar transistor is connected to the first terminal of the first voltage source, the emitter is connected to the drain and the substrate of the field-effect transistor, and the collector is connected to the gate of the field-effect transistor, via a resistor, and the first terminal of the inductance coil, which is connected to the first output terminal of the proposed device. The second terminal of the inductance coil is connected to the first terminal of the capacitor and the first terminal of the second voltage source. The second terminals of the first and the second voltage sources are connected to each other producing the common point of the power-supply circuit of the proposed device. The second terminal of the capacitor and the second output terminal of the device are connected to the said common point.