Фракціонування золових залишків – ефективний шлях переробки техногенних відходів

Abstract

Одним з гострих питань сьогодення є розробка прогресивних методів отримання високоочищеного діоксиду кремнію. Це пов'язано з тим, що такий продукт виступає в ролі сировинної бази для одержання моно- та полікристалічного кремнію для електронної індустрії. Крім того, діоксид кремнію використовується в косметології.

Одним из острых вопросов современности является разработка прогрессивных методов получения высокоочищенного диоксида кремния. Это связано с тем, что такой продукт выступает в роли сырьевой базы для получения моно- и поликристаллического кремния для электронной промышленности. Кроме того, диоксид кремния используется в косметологии.

One of the pressing issues today is the development of advanced methods for obtaining high purity silicon dioxide. This is due to the fact that such a product acts as a raw material base for the production of mono- and polycrystalline silicon for the electronic industry. In addition, silicon dioxide is used in cosmetology.