Спосіб плазмового травлення оптично прозорих плівок оксиду індію та олова

Abstract

Спосіб плазмового травлення оптично прозорих плівок оксиду індію та олова належить до електронної техніки і може бути використаний в мікроелектронній технології при формуванні напівпровідникових структур на основі оксидів олова та індію.

Способ плазменного травления оптически прозрачных пленок оксида индия и олова относится к электронной технике и может быть использован в микроэлектронной технологии при формировании полупроводниковых структур на основе оксидов олова и индия.

A plasma etching method for optically transparent films of indium and tin oxides relates to electronic engineering and can be used in microelectronic technique at forming semitransparent structures on the base of indium and tin oxides.