Теоретичні основи деформаційного ефекту в МДН-транзисторних структурах
dc.contributor.author | Осадчук, О. В. | uk |
dc.contributor.author | Осадчук, Я. О. | uk |
dc.date.accessioned | 2017-01-14T20:17:57Z | |
dc.date.available | 2017-01-14T20:17:57Z | |
dc.date.issued | 2013 | |
dc.identifier.citation | Осадчук О. В. Теоретичні основи деформаційного ефекту в МДН-транзисторних структурах [Текст] / О. В. Осадчук, Я. О. Осадчук // Науковий вісник КУЕІТУ. - 2013. - № 3-4. - С. 64-72. | uk |
dc.identifier.uri | http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/13629 | |
dc.description.abstract | The paper presents a mathematical model of deformation effects in MOS transistor that is used as an element in tenzosensitive of pressure transducer with a frequency output . On the basis of a mathematical model designed dependence of the threshold voltage, saturation voltage, gate-source voltage of the pressure action. Most dependence of these parameters on the pressure observed at work MOS transistor in saturation at high pressures greater than 108 Pa. | en |
dc.language.iso | uk_UA | uk_UA |
dc.publisher | Кременчуцький університет економіки, інформаційних технологій і управління | uk |
dc.subject | deformation effect | en |
dc.subject | frequensy sensor | en |
dc.subject | tensor sensible element | en |
dc.title | Теоретичні основи деформаційного ефекту в МДН-транзисторних структурах | uk |
dc.type | Article | |
dc.identifier.udc | 621.382 |
Файли в цьому документі
Даний документ включений в наступну(і) колекцію(ї)
-
Наукові роботи каф. ІРТС [779]
статті, матеріали конференцій