Мікропроцесорний пристрій для контролю процесу плазмохімічного травлення мікроструктур

Abstract

Розроблено пристрій контролю плазмохімічного травлення на основі застосування методу емісійно-спектрального контролю, що складається з вузькосмугових фільтрів, первинних оптичних перетворювачів (фоторезистор), частотних перетворювачів та компаратора. Розраховано вольт-амперну характеристику частотного оптичного перетворювача з фото резистором. Показано, що оптичний перетворювач має чутливість в межах від 64 до 5 кГц/люкс, максимальну чутливість оптичний перетворювач має при напрузі живлення 1 В та напрузі керування 6 В. Розроблено друковану плату пристрою.

The device control plasma chemical etching method based on the use of emission-control spectrum consisting of narrow band filters, primary optical converters (resistor), frequency converters and microprocesor. Calculated current-voltage characteristic frequency optical converter with a photo resistor. It is shown that the optical transducer has a sensitivity ranging from 64 to 5 kHz / lux maximum sensitivity optical converter is the supply voltage 1 V and control voltage 6 V. A printed circuit board unit.