Розподіл концентрації інжектованих носіїв заряду в базовій області при дії магнітного поля в біполярних магніточутливих структурах
Вантажиться...
Файли
Дата
Автори
Науковий керівник
Редактор
Інші учасники
Відповідальний
ORCID
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
DOI
Альтернативна назва
Анотація
Показано вплив магнітного поля на розподіл концентрації носіїв заряду в базовій області
біполярних магніточутливих структурах. Отримано теоретичні залежності параметрів
біполярних транзисторів з урахуванням цього впливу.
Опис
Ключові слова
УДК
Тип документа
Мова
Є частиною
ISSN
Посилання на публікацію
Серія, номер
ISBN
ББК
Інші ідентифікатори
Пов’язані матеріали
Спонсорська підтримка
Правовласник
Бібліографічний опис
Осадчук В. С. Розподіл концентрації інжектованих носіїв заряду в базовій області при дії магнітного поля в біполярних магніточутливих структурах [Електронний ресурс] / В. С. Осадчук, О. В. Осадчук // Наукові праці Вінницького національного технічного університету. - 2011. - № 3. - Режим доступу : http://praci.vntu.edu.ua/index.php/praci/article/view/289.