<link rel="stylesheet" href="styles.f3b1fba60ec7970c.css">

Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorКравченко, Сергій Юрійовичuk
dc.contributor.authorКравченко, Юрій Степановичuk
dc.contributor.authorОсадчук, Володимир Степановичuk
dc.contributor.authorОсадчук, Олександр Володимировичuk
dc.contributor.authorОсадчук, Александр Владимировичru
dc.contributor.authorKravchenko, Serhii Yuriiovychen
dc.contributor.authorKravchenko, Yurii Stepanovychen
dc.contributor.authorOsadchuk, Volodymyr Stepanovychen
dc.contributor.authorOsadchuk, Oleksandr Volodymyrovychen
dc.titleПристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травленняuk
dc.title.alternativeУстройство определения момента окончания процесса плазменного травленияru
dc.title.alternativeDevice for determination of process finishing point of plasma etchingen
dc.date.issued2007-10-10
dc.publisherДержавне підприємство "Український інститут промислової власності" (УКРПАТЕНТ)uk
dc.identifier.citationПат. 26975 UA, МПК H01L 21/302. Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення [Текст] / С. Ю. Кравченко, Ю. С. Кравченко, В. С. Осадчук, О. В. Осадчук (Україна). - № u200706552 ; заявл. 11.06.2007 ; опубл. 10.10.2007, Бюл. № 19. - 2 с. : кресл.uk
dc.identifier26975
dc.identifier.urihttp://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/12927
dc.description.abstractПристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, в якому за рахунок введення нових елементів і зв'язків між ними досягається можливість підвищення чутливості і достовірності контролю за рахунок можливості виміру малої відносної концентрації збуджених частинок плазми.uk
dc.description.abstractУстройство определения момента окончания процесса плазменного травления, в котором за счет введения новых элементов между ними достигается возможность повышения чувствительности и достоверности контроля за счет возможности измерения малой относительной концентрации возбужденных частиц плазмы.ru
dc.description.abstractThe invention proposes a device for determination of the process finishing point of plasma etching. Due to introduction of new elements it is achieved possibility for sensitivity enhancement and control reliability due to possibility for measuring of small relative concentration of excited plasma particles.en
dc.subjectH01L 21/302
dc.subjectелектронна технікаuk
dc.subjectпроцес плазмового травленняuk
dc.subjectконтроль плазмових процесівuk
dc.typePatent
dc.language.isoukuk
dc.date.accessioned2016-08-03T08:48:21Z
dc.date.available2016-08-03T08:48:21Z

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
26975.pdf
Розмір:
80,65 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
2,14 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Факультет інформаційних електронних систем