Частотний оптичний перетворювач для контролю плазмохімічних процесів
Вантажиться...
Дата
Науковий керівник
Редактор
Інші учасники
Відповідальний
ORCID
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
DOI
Альтернативна назва
Частотный оптический преобразователь для контроля плазмохимических процессов
Frequency optical converter to monitor plasma-chemical processes
Frequency optical converter to monitor plasma-chemical processes
Анотація
Експериментально досліджено можливість використання частотного оптичного перетворювача на основі біполярного та польового транзисторів в системі контролю процесу зняття фоторезисту. Дослідження проводились на установці плазмохімічної та іонно-хімічної обробки 08ПХО-125/50-08 (тиск в системі становив 20 Па, потужність – 900 Вт, товщина фоторезисту – 1,5 мкм).
Экспериментально исследована возможность использования частотного оптического преобразователя на основе биполярного и полевого транзисторов в системе контроля процесса снятия фоторезиста. Исследования проводились на установке плазмохимической и ионно-химической обработки 08ПХО-125 / 50-08 (давление в системе составлял 20 Па, мощность - 900 Вт, толщина фоторезиста - 1,5 мкм).
Experimentally investigated the use of frequency optical converter based bipolar transistors and field control system in the process of removing photoresist. Research conducted at the facility for ion-plasma chemical and chemical processing 08PHO-125 / 50-08 (pressure the system was 20 Pa, power - 900 watts, photoresist thickness - 1.5 mm).
Экспериментально исследована возможность использования частотного оптического преобразователя на основе биполярного и полевого транзисторов в системе контроля процесса снятия фоторезиста. Исследования проводились на установке плазмохимической и ионно-химической обработки 08ПХО-125 / 50-08 (давление в системе составлял 20 Па, мощность - 900 Вт, толщина фоторезиста - 1,5 мкм).
Experimentally investigated the use of frequency optical converter based bipolar transistors and field control system in the process of removing photoresist. Research conducted at the facility for ion-plasma chemical and chemical processing 08PHO-125 / 50-08 (pressure the system was 20 Pa, power - 900 watts, photoresist thickness - 1.5 mm).
Опис
УДК
Тип документа
Мова
ISSN
Посилання на публікацію
Серія, номер
Технічні науки
ISBN
ББК
Інші ідентифікатори
Пов’язані матеріали
Спонсорська підтримка
Правовласник
Бібліографічний опис
Частотний оптичний перетворювач для контролю плазмохімічних процесів [Текст] / В. С. Осадчук, О. В. Осадчук, Ю. С. Кравченко, О. О. Селецька // Вісник Хмельницького національного університету.Серія "Техніні науки". - № 4. - 2008. - С. 160-163.