Оцінювання якісного впливу факторів на чутливість вологочутливого МДН-конденсатора на основі аморфного силіцій(IV) оксиду

Abstract

The work uses multifactorial dispersion analysis to assess the qualitative influence of factors: the thickness of the moisturesensitive amorphous silicon(IV) oxide layer; the diameter of the pores of moisture-sensitive amorphous silicon(IV) oxide, as well as their combined effect on the sensitivity of the moisture-sensitive MDS (metal-dielectric-semiconductor) capacitor based on amorphous silicon(IV) oxide. The experimental sample was a moisture-sensitive MDS capacitor, which is made on an n-type silicon plate with crystallographic orientation <100>, on the lower side of which a highly doped n+ layer is created using high-temperature diffusion. Such a plate serves as the lower electrode of the structure. A SiO2 film, which is the dielectric of this structure, is created on the planar side of the plate using the process of thermal oxidation. A porous SiO2 film with a thickness of 1 μm is created on the surface of thermally oxidized SiO2 by lowtemperature oxidation in moist oxygen. A mesh aluminum electrode serves as the upper electrode of the structure. To create an ohmic contact, a thin layer of aluminum is sprayed on the reverse side of the plate. A multivariate plan was developed for two qualitative factors. With the use of multivariate dispersion analysis, it was proved that the response of the model, namely, the sensitivity of the moisture-sensitive MDS capacitor based on amorphous silicon(IV) oxide, is affected by the factor - the diameter of the pores of the moisture-sensitive amorphous silicon(IV) oxide. In this case, the value of Fisher's criterion observed in the experiment significantly exceeds the critical value of Fisher's criterion, namely, F>Fkr (16.44>4.75). The difference in the response values of the model is related only to the change in the value of the factor. The influence of such factors is the thickness of the layer of moisture-sensitive amorphous silicon(IV) oxide, the combined effect: the thickness of the layer of moisture-sensitive amorphous silicon(IV) oxide + the diameter of the pores of moisture-sensitive amorphous silicon(IV) oxide is insignificant, that is, the difference in the response values of the model is due only to the random nature (F < Fkr). On the basis of dispersion analysis, it was proved that the sensitivity of the moisture-sensitive MDS capacitor based on amorphous silicon(IV) oxide is affected only by the size of the pores of amorphous silicon(IV) oxide

В роботі застосовано багатофакторний дисперсійний аналіз для оцінювання якісного впливу факторів: товщина шару вологочутливого аморфного силіцій(IV) оксиду; діаметр пор вологочутливого аморфного силіцій(IV) оксиду, а також їх сумісний вплив на чутливість вологочутливого МДН-конденсатора на основі аморфного силіцій(IV) оксиду. Розроблено багатофакторний план для двох якісних факторів. З використанням багатофакторного дисперсійного аналізу доведено, що на відгук моделі, тобто на чутливість вологочутливого МДН-конденсатора на основі аморфного силіцій(IV) оксиду впливає фактор − це діаметр пор вологочутливого аморфного силіцій(IV) оксиду. В цьому випадку значення критерію Фішера, яке спостерігається в експерименті значно перевищує критичне значення критерію Фішера, а саме, F >Fкр (16,44>4,75). Різниця в значеннях відгуку моделі пов`язана тільки зі зміною значення фактора. Вплив таких факторів – це товщина шару вологочутливого аморфного силіцій(IV) оксиду, сумісний вплив: товщина шару вологочутливого аморфного силіцій(IV) оксиду + діаметр пор вологочутливого аморфного силіцій(IV) оксиду є несуттєвим, тобто різниця в значеннях відгуку моделі обумовлена тільки випадковим характером (F < Fкр). На основі дисперсійного аналізу доведено, що на чутливість вологочутливого МДН-конденсатора на основі аморфного силіцій(IV) оксиду впливає тільки розмір пор аморфного силіцій(IV) оксиду.