Багатоканальна система реєстрації спектра випромінювання нерівноважної плазми
Вантажиться...
Файли
Дата
Науковий керівник
Редактор
Інші учасники
Відповідальний
ORCID
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
DOI
Альтернативна назва
Multichannel recording system of the emission spectrum of nonequilibrium plasma
Многоканальная система регистрации спектра излучения неравновесной плазмы
Многоканальная система регистрации спектра излучения неравновесной плазмы
Анотація
На базі мікроконтролера РІС16F877A розроблена мікропроцесорна система реєстрації спектра випромінювання нерівноважної плазми для контролю плазмохімічних процесів. Система дозволяє проводити одночасну обробку даних від чотирьох незалежних джерел інформації та візуалізувати цільовий процес плазмового травлення мікроструктур.
На базе микроконтроллера РІС16F877A разработана микропроцессорная система регистрации спектра излучения неравновесной плазмы для контроля плазмохимических процессов. Система позволяет проводить одновременную обработку данных от четырех независимых источников информации и визуализировать целевой процесс плазменного травления микроструктур.
On the basis of the microcontroller RІS16F877A microprocessor system of registration of the emission spectrum of nonequilibrium plasma is designed to control plasma-chemical processes. The system allows simultaneous processing of data from four independent sources of information and visualize the target process of plasma etching of microstructures.
На базе микроконтроллера РІС16F877A разработана микропроцессорная система регистрации спектра излучения неравновесной плазмы для контроля плазмохимических процессов. Система позволяет проводить одновременную обработку данных от четырех независимых источников информации и визуализировать целевой процесс плазменного травления микроструктур.
On the basis of the microcontroller RІS16F877A microprocessor system of registration of the emission spectrum of nonequilibrium plasma is designed to control plasma-chemical processes. The system allows simultaneous processing of data from four independent sources of information and visualize the target process of plasma etching of microstructures.
Опис
УДК
Тип документа
Мова
Є частиною
Посилання на публікацію
Серія, номер
ISBN
ББК
Інші ідентифікатори
Пов’язані матеріали
Спонсорська підтримка
Правовласник
Бібліографічний опис
Багатоканальна система реєстрації спектра випромінювання нерівноважної плазми [Текст] / В. М. Білилівський, С. Ю. Кравченко, Ю. С. Кравченко, В. С. Осадчук // Вісник Вінницького політехнічного інституту. - 2011. - № 4. - С. 169-172.