Теоретичні основи деформаційного ефекту в МДН-транзисторних структурах
Вантажиться...
Дата
Науковий керівник
Редактор
Інші учасники
Відповідальний
ORCID
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
DOI
Альтернативна назва
Theoretical foundations of the deformation effect in MOS transistor structures
Анотація
У роботі подано математичну модель деформаційних ефектів у МОН-транзисторі, що використовується як елемент у тензочутливому перетворювачі тиску з частотним виходом. На основі математичної моделі розроблено залежності порогової напруги, напруги насичення, напруги затвор — витік від дії тиску. Найбільша залежність цих параметрів від тиску спостерігається під час роботи МОН-транзистора в режимі насичення за високих тисків, більших за 10⁸ Па.
The paper presents a mathematical model of deformation effects in MOS transistor that is used as an element in tenzosensitive of pressure transducer with a frequency output . On the basis of a mathematical model designed dependence of the threshold voltage, saturation voltage, gate-source voltage of the pressure action. Most dependence of these parameters on the pressure observed at work MOS transistor in saturation at high pressures greater than 108 Pa.
The paper presents a mathematical model of deformation effects in MOS transistor that is used as an element in tenzosensitive of pressure transducer with a frequency output . On the basis of a mathematical model designed dependence of the threshold voltage, saturation voltage, gate-source voltage of the pressure action. Most dependence of these parameters on the pressure observed at work MOS transistor in saturation at high pressures greater than 108 Pa.
Опис
УДК
Тип документа
Мова
Є частиною
ISSN
Посилання на публікацію
Серія, номер
ISBN
ББК
Інші ідентифікатори
Пов’язані матеріали
Спонсорська підтримка
Правовласник
Бібліографічний опис
Осадчук О. В. Теоретичні основи деформаційного ефекту в МДН-транзисторних структурах [Текст] / О. В. Осадчук, Я. О.Осадчук // Науковий вісник КУЕІТУ "Нові технології". - 2013. - № 3-4. - С. 64-72.