• English
    • українська
  • українська 
    • English
    • українська
  • Увійти
Дивитися документ 
  • Головна
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • Дивитися документ
  • Головна
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • Дивитися документ
Сайт інституційного репозитарію ВНТУ містить роботи, матеріали та файли, які були розміщені докторантами, аспірантами та студентами Вінницького Національного Технічного Університету. Для розширення функцій сайту рекомендується увімкнути JavaScript.

Спосіб виготовлення кремнію і шарів з нього

Автор
Новіков, Анатолій Олександрович
Новиков, Анатолий Александрович
Novikov, Anatolii Oleksandrovych
Дата
2009-05-12
Metadata
Показати повну інформацію
Collections
  • Факультет інформаційних електронних систем [684]
Анотації
Спосіб виготовлення кремнію і шарів з нього включає генерування газової плазми в реакторі за допомогою електродів, інжектування в нього сировини, яка містить кремнезем і відновлювач. Генерування плазми здійснюють запалюванням між електродами високовольтного тліючого розряду. Сировину, що містить кремнезем, або виріб з неї поміщають у катодну зону високовольтного тліючого розряду і опромінюють потоком іонів та швидких атомів, що утворюються в високовольтному тліючому розряді, а також потоком квантів від джерела випромінювання. В плазмову зону високовольтного тліючого розряду подають технологічний газ та відновлювач, що містить вуглеводень.
 
Способ изготовления кремния и слоев из него включает генерирование газовой плазмы в реакторе с помощью электродов, инжектирование в него сырья, содержащего кремнезем и восстановитель. Генерирование плазмы осуществляют запаливанием между электродами высоковольтного тлеющего разряда. Сырье, содержащее кремнезем, или изделие из него помещают в катодную зону высоковольтного тлеющего разряда и облучают потоком ионов и быстрых атомов, образующихся в высоковольтном тлеющем разряде, а также потоком квантов от источника излучения. В плазмовую зону высоковольтного тлеющего разряда подают технологический газ и восстановитель, содержащий углеводород.
 
A process for silicon production and layers thereof comprises the generation of gaseous plasma in a reactor using electrodes, injecting of raw material, containing silica and reducing agent, into silicon. The generation of plasma is carried out by firing of high voltage glow discharge between the electrodes. The raw material, containing silica, or product of it, is placed into the cathode zone of high voltage glow discharge and irradiated by ion and fast atoms flow, being formed in high voltage glow discharge, and also by quanta flow from the radiation source. Process gas and reducing agent, containing hydrocarbon, are supplied into the plasma zone of high voltage glow discharge.
 
URI:
http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2614
Відкрити
41317.pdf (122.0Kb)

Інституційний репозиторій

ГоловнаПошукДовідкаКонтактиПро нас

Ресурси

JetIQСайт бібліотекиСайт університетаЕлектронний каталог ВНТУ

Перегляд

Всі архівиСпільноти та колекціїЗа датою публікаціїАвторамиНазвамиТемамиТипВидавництвоМоваУДКISSNВидання, що міститьDOIЦя колекціяЗа датою публікаціїАвторамиНазвамиТемамиТипВидавництвоМоваУДКISSNВидання, що міститьDOI

Мій обліковий запис

ВхідРеєстрація

Статистика

View Usage Statistics

ISSN 2413-6360 | Головна | Відправити відгук | Довідка | Контакти | Про нас
© 2016 Vinnytsia National Technical University | Extra plugins code by VNTU Linuxoids | Powered by DSpace
Працює за підтримки 
НТБ ВНТУ