Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення
Вантажиться...
Файли
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
DOI
Анотація
The proposed device for determining the end of plasma etching process contains a narrow-band interference filter, a photoelectric converter, a photodiode, a resistor, a bipolar transistor, a field-effect transistor, an inductance coil, and two direct voltage sources.
Опис
УДК
Тип документа
Мова
Є частиною
ISSN
Бібліографічний опис
Пат. 4413 UA, МПК H01L 21/302. Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення [Текст] / С. Ю. Кравченко, О. О. Даниленко (Україна). - № u20040503420 ; заявл. 06.05.2004 ; опубл. 17.01.2005, Бюл. № 1. - 2 с. : кресл.