Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення

Abstract

Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, фотоперетворювач, фотодіод, резистор, біполярний та польовий транзистори, індуктивність, ємність і два джерела постійної напруги.Предлагаемое устройство для определения момента времени завершения процесса плазменного травления содержит узкополосный интерференционный фильтр, фотоэлектрический преобразователь, фотодиод, резистор, биполярный и полевой транзисторы, катушку индуктивности и два источника постоянного напряжения.The proposed device for determining the end of plasma etching process contains a narrow-band interference filter, a photoelectric converter, a photodiode, a resistor, a bipolar transistor, a field-effect transistor, an inductance coil, and two direct voltage sources.