<link rel="stylesheet" href="styles.f3b1fba60ec7970c.css">

Теоретичні основи деформаційного ефекту в МДН-транзисторних структурах

Вантажиться...
Ескіз

Дата

Науковий керівник

Редактор

Інші учасники

Відповідальний

ORCID

Назва журналу

Номер ISSN

Назва тому

DOI

Альтернативна назва

Theoretical foundations of the deformation effect in MOS transistor structures

Анотація

У роботі подано математичну модель деформаційних ефектів у МОН-транзисторі, що використовується як елемент у тензочутливому перетворювачі тиску з частотним виходом. На основі математичної моделі розроблено залежності порогової напруги, напруги насичення, напруги затвор — витік від дії тиску. Найбільша залежність цих параметрів від тиску спостерігається під час роботи МОН-транзистора в режимі насичення за високих тисків, більших за 10⁸ Па.
The paper presents a mathematical model of deformation effects in MOS transistor that is used as an element in tenzosensitive of pressure transducer with a frequency output . On the basis of a mathematical model designed dependence of the threshold voltage, saturation voltage, gate-source voltage of the pressure action. Most dependence of these parameters on the pressure observed at work MOS transistor in saturation at high pressures greater than 108 Pa.

Опис

УДК

Тип документа

Мова

Є частиною

ISSN

Посилання на публікацію

Серія, номер

ISBN

ББК

Інші ідентифікатори

Пов’язані матеріали

Спонсорська підтримка

Правовласник

Бібліографічний опис

Осадчук О. В. Теоретичні основи деформаційного ефекту в МДН-транзисторних структурах [Текст] / О. В. Осадчук, Я. О.Осадчук // Науковий вісник КУЕІТУ "Нові технології". - 2013. - № 3-4. - С. 64-72.

Схвалення

Рецензія

Доповнено

Цитується в