• English
    • русский
    • українська
  • русский 
    • English
    • русский
    • українська
  • Войти
Просмотр элемента 
  • Главная
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • Просмотр элемента
  • Главная
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • Просмотр элемента
Сайт інституційного репозитарію ВНТУ містить роботи, матеріали та файли, які були розміщені докторантами, аспірантами та студентами Вінницького Національного Технічного Університету. Для розширення функцій сайту рекомендується увімкнути JavaScript.

Спосіб визначення моменту закінчення процесу плазмохімічного травлення

Автор
Кравченко, Сергій Юрійович
Кравченко, Юрій Степанович
Осадчук, Володимир Степанович
Осадчук, Олександр Володимирович
Кравченко, Сергей Юрьевич
Кравченко, Юрий Степанович
Осадчук, Владимир Степанович
Осадчук, Александр Владимирович
Kravchenko, Serhii Yuriiovych
Kravchenko, Yurii Stepanovych
Osadchuk, Volodymyr Stepanovych
Osadchuk, Oleksandr Volodymyrovych
Дата
2007-10-10
Metadata
Показать полную информацию
Collections
  • Факультет інформаційних електронних систем [625]
Аннотации
Спосіб визначення моменту закінчення процесу плазмохімічного травлення, в якому за рахунок введення нових операцій і зв'язків між ними досягається можливість вимірювання малих відносних концентрацій збуджених частинок плазми, що приводить до підвищення чутливості і достовірності контролю цільового процесу.
 
Способ определения момента окончания процесса плазмохимического травления, в котором за счет введения новых операций и связей между ними достигается возможность измерения малых относительных концентраций возбужденных частиц плазмы, что приводит к повышению чувствительности и достоверности контроля целевого процесса.
 
The invention proposes a method for determination of the process finishing point of plasmochemical etching. Due to introduction of new procedures and relations between them it is achieved possibility for measuring small relative concentration of excited plasma particles that leads to sensitivity enhancement and increase of control reliability of target process.
 
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/12926
Открыть
26976.pdf (89.71Kb)

Институционный репозитарий

ГлавнаяПоискСправкаКонтактыО нас

Ресурсы

JetIQСайт библиотекиСайт университетаЭлектронный каталог ВНТУ

Просмотр

Весь DSpaceСообщества и коллекцииДата публикацииАвторыНазванияТематикаТипИздательствоЯзыкУДКISSNИздательства, что имеетDOIЭта коллекцияДата публикацииАвторыНазванияТематикаТипИздательствоЯзыкУДКISSNИздательства, что имеетDOI

Моя учетная запись

ВойтиРегистрация

Статистика

Просмотр статистики

ISSN 2413-6360 | Главная | Отправить отзыв | Справка | Контакты | О нас
© 2016 Vinnytsia National Technical University | Extra plugins code by VNTU Linuxoids | Powered by DSpace
Працює за підтримки 
НТБ ВНТУ