Пристрій для випару матеріалів

Abstract

Пристрій для випару матеріалів складається із технологічної камери, в якій розміщено тигель зі встановленим над ним колектором пари, розташованих ззовні послідовно функціонально з'єднаних нагрівника, мікропроцесорної системи керування нагрівником і системи контролю стану процесу, з ваговим тензометричним сенсором, розташованим над технологічною камерою в окремому корпусі, з зондом, розміщеним всередині технологічної камери. В пристрій введений частотний генератор на від'ємному опорі, вхід якого з'єднаний з виходом вагового тензометричного сенсора, а вихід - зі входом системи контролю стану процесу.

Устройство для испарения материалов состоит из технологической камеры, в которой размещен тигель с установленным над ним коллектором пара, расположенными внешне последовательно функционально соединенными нагревателями, микропроцессорной системой управления нагревателем и системой контроля состояния процесса, с массовым тензометрическим сенсором, расположенным над технологической камерой в отдельном корпусе, с зондом, размещенным внутри технологической камеры. В устройство введен частичный генератор на разъемном сопротивлении, вход которого соединен с выходом массового тензометрического сенсора, а выход – с выходом системы контроля состояния процесса.

A device for vaporation of materials consists of a technological chamber in which a crucible is placed with the vapor collector installed above it, the heaters located externally and consistently functionally connected, the microprocessor control system of the heater and the check system of process state, with the mass strain-gage sensor located above the technological chamber in individual case, with probing device placed inside the technological chamber. The partial generator on demountable resistance is introduced in device, which input is connected to output of mass strain-gage sensor control, and output is connected with the outlet of the check system of process state.