dc.contributor.author | Кравченко, Сергій Юрійович | uk |
dc.contributor.author | Кравченко, Юрій Степанович | uk |
dc.contributor.author | Мандзюк, Оксана Миколаївна | uk |
dc.contributor.author | Осадчук, Володимир Степанович | uk |
dc.contributor.author | Кравченко, Сергей Юрьевич | ru |
dc.contributor.author | Кравченко, Юрий Степанович | ru |
dc.contributor.author | Мандзюк, Оксана Николаевна | ru |
dc.contributor.author | Осадчук, Владимир Степанович | ru |
dc.contributor.author | Kravchenko, Serhii Yuriiovych | en |
dc.contributor.author | Kravchenko, Yurii Stepanovych | en |
dc.contributor.author | Mandziuk, Oksana Mykolaivna | en |
dc.contributor.author | Osadchuk, Volodymyr Stepanovych | en |
dc.date.accessioned | 2015-08-31T08:08:07Z | |
dc.date.available | 2015-08-31T08:08:07Z | |
dc.date.issued | 2012-09-10 | |
dc.identifier | 73081 | |
dc.identifier.citation | Пат. 73081 UA, МПК G01N 21/00. Пристрій для визначення закінчення процесу плазмового травлення [Текст] / С. Ю. Кравченко, Ю. С. Кравченко, О. М. Мандзюк, В. С. Осадчук (Україна). - № u201202379 ; заявл. 28.02.2012 ; опубл. 10.09.2012, Бюл. № 17. - 4 с. : кресл. | uk |
dc.identifier.uri | http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/1654 | |
dc.description.abstract | Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить лазер як джерело світла, конденсор, поворотне дзеркало, діафрагму та плазмовий реактор з пластинками, що підлягають обробці, і оптичним вікном для вводу і виводу оптичного випромінювання. Лазер оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який містить фоторезистор, два біполярних транзистори, п'ять резисторів, дві ємності і одне джерело постійної напруги. Фотоперетворювач містить друге джерело постійної напруги і індуктивність, причому перший вивід фоторезистора з'єднано із другим виводом індуктивності, а другий вивід фоторезистора з'єднаний із другими виводами полюса першого і другого джерел постійної напруги. Перший вивід полюса другого джерела постійної напруги через перший резистор з′єднаний з емітером першого біполярного транзистора, перший вивід індуктивності з'єднано із колектором першого біполярного транзистора і базою другого біполярного транзистора. База першого біполярного транзистора з'єднана через другий резистор з першим полюсом першого джерела постійної напруги і з′єднана з колектором другого біполярного транзистора, колектор першого біполярного транзистора з'єднаний із базою другого біполярного транзистора, колектор якого з'єднаний через другий резистор з першим полюсом першого джерела постійної напруги. | uk |
dc.description.abstract | Устройство для определения момента окончания процесса плазменного травления содержит лазер как источник света, конденсор, поворотное зеркало, диафрагму и плазменный реактор с пластинками, которые подлежат обработке, и оптическим окном для ввода и вывода оптического излучения. Лазер оптически связан с фотопреобразователем, который содержит фоторезистор, два биполярных транзистора, пять резисторов, две емкости и один источник постоянного напряжения. Фотопреобразователь содержит второй источник постоянного напряжения и индуктивность, причем первый вывод фоторезистора соединен со вторым выводом индуктивности, а второй вывод фоторезистора соединен со вторыми выводами полюса первого и второго источников постоянного напряжения. Первый вывод полюса второго источника постоянного напряжения через первый резистор соединен с эмиттером первого биполярного транзистора, первый вывод индуктивности соединен с коллектором первого биполярного транзистора и базой второго биполярного транзистора. База первого биполярного транзистора соединена через второй резистор с первым полюсом первого источника постоянного напряжения и соединена с коллектором второго биполярного транзистора, коллектор первого биполярного транзистора соединен с базой второго биполярного транзистора, коллектор которого соединен через второй резистор с первым полюсом первого источника постоянного напряжения. | ru |
dc.description.abstract | A device for the determination of the plasma etching process end comprises a laser as a source of light, condenser, rotary mirror, diaphragm and a plasma reactor with plates that are to be treated, and with optical window for input and output of optical radiation. The laser is optically connected to a photo converter that comprises a photo-resistor, two bipolar transistors, five resistors, two vessels and one source of direct voltage. The photo converter comprises the second source of direct voltage and inductance, at that the first output of the photo-resistor is connected to the second output of inductance, and the other output of the photo-resistor is connected to the second outputs of the pole of the first and the second sources of direct voltage. The first output of the pole of the second source of direct voltage through the first resistor is connected to the emitter of the first bipolar transistor, the first output of inductance is connected to the collector of the first bipolar transistor and the base of the second bipolar transistor. The base of the first bipolar transistor is connected through the second resistor to the first pole of the first source of direct voltage and is connected to the collector of the second bipolar transistor, collector of the first bipolar transistor is connected to the base of the second bipolar transistor collector of which is connected through the second resistor to the first pole of the first source of direct voltage. | en |
dc.language.iso | uk_UA | uk_UA |
dc.publisher | Державне підприємство "Український інститут промислової власності" (УКРПАТЕНТ) | uk |
dc.subject | G01N 21/00 | |
dc.subject | електронна техніка | uk |
dc.subject | процес плазмового травлення | uk |
dc.subject | контроль плазмових процесів | uk |
dc.title | Пристрій для визначення закінчення процесу плазмового травлення | uk |
dc.title.alternative | Устройство для определения окончания процесса плазменного травления | ru |
dc.title.alternative | Device for the determination of the plasma etching process end | en |
dc.type | Patent | |