Пристрій для визначення закінчення процесу плазмового травлення

Abstract

Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить лазер як джерело світла, конденсор, поворотне дзеркало, діафрагму та плазмовий реактор з пластинками (зразками), оптичним вікном для вводу і виводу оптичного випромінювання, фотоперетворювачем, який містить фоторезистор, три біполярних транзистора, п'ять резисторів, дві ємності і одне джерело постійної напруги. Фотоперетворювач містить друге джерело постійної напруги і індуктивність.Устройство для определения момента окончания процесса плазменного травления содержит лазер как источник света, конденсор, поворотное зеркало, диафрагму и плазменный реактор с пластинками (образцами), оптическим окном для ввода и вывода оптического излучения, фотопреобразователем, который содержит фоторезистор, три биполярных транзистора, пять резисторов, две емкости и один источник постоянного напряжения. Фотопреобразователь содержит второй источник постоянного напряжения и индуктивность.A device for determination of the instant of the of plasma etching process end comprises a laser as a source of light, condenser, rotary mirror, diaphragm and plasma reactor with plates (samples), optical window for inlet and outlet of optical radiation, photo-transducer that comprises a photo-resistor, three bipolar transistors, five resistors, two vessels and one direct voltage source. The photo-transducer comprises a second direct voltage source and an inductance.