• English
    • русский
    • українська
  • русский 
    • English
    • русский
    • українська
  • Войти
Просмотр элемента 
  • Главная
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • Просмотр элемента
  • Главная
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • Просмотр элемента
Сайт інституційного репозитарію ВНТУ містить роботи, матеріали та файли, які були розміщені докторантами, аспірантами та студентами Вінницького Національного Технічного Університету. Для розширення функцій сайту рекомендується увімкнути JavaScript.

Пристрій для визначення закінчення процесу плазмового травлення

Автор
Кравченко, Сергій Юрійович
Кравченко, Юрій Степанович
Мандзюк, Оксана Миколаївна
Осадчук, Володимир Степанович
Кравченко, Сергей Юрьевич
Кравченко, Юрий Степанович
Мандзюк, Оксана Николаевна
Осадчук, Владимир Степанович
Kravchenko, Serhii Yuriiovych
Kravchenko, Yurii Stepanovych
Mandziuk, Oksana Mykolaivna
Osadchuk, Volodymyr Stepanovych
Дата
2012-08-10
Metadata
Показать полную информацию
Collections
  • Факультет інформаційних електронних систем [640]
Аннотации
Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить лазер як джерело світла, конденсор, поворотне дзеркало, діафрагму та плазмовий реактор з пластинками (зразками), оптичним вікном для вводу і виводу оптичного випромінювання, фотоперетворювачем, який містить фоторезистор, три біполярних транзистора, п'ять резисторів, дві ємності і одне джерело постійної напруги. Фотоперетворювач містить друге джерело постійної напруги і індуктивність.
 
Устройство для определения момента окончания процесса плазменного травления содержит лазер как источник света, конденсор, поворотное зеркало, диафрагму и плазменный реактор с пластинками (образцами), оптическим окном для ввода и вывода оптического излучения, фотопреобразователем, который содержит фоторезистор, три биполярных транзистора, пять резисторов, две емкости и один источник постоянного напряжения. Фотопреобразователь содержит второй источник постоянного напряжения и индуктивность.
 
A device for determination of the instant of the of plasma etching process end comprises a laser as a source of light, condenser, rotary mirror, diaphragm and plasma reactor with plates (samples), optical window for inlet and outlet of optical radiation, photo-transducer that comprises a photo-resistor, three bipolar transistors, five resistors, two vessels and one direct voltage source. The photo-transducer comprises a second direct voltage source and an inductance.
 
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/1664
Открыть
72328.pdf (231.7Kb)

Институционный репозитарий

ГлавнаяПоискСправкаКонтактыО нас

Ресурсы

JetIQСайт библиотекиСайт университетаЭлектронный каталог ВНТУ

Просмотр

Весь DSpaceСообщества и коллекцииДата публикацииАвторыНазванияТематикаТипИздательствоЯзыкУДКISSNИздательства, что имеетDOIЭта коллекцияДата публикацииАвторыНазванияТематикаТипИздательствоЯзыкУДКISSNИздательства, что имеетDOI

Моя учетная запись

ВойтиРегистрация

Статистика

Просмотр статистики

ISSN 2413-6360 | Главная | Отправить отзыв | Справка | Контакты | О нас
© 2016 Vinnytsia National Technical University | Extra plugins code by VNTU Linuxoids | Powered by DSpace
Працює за підтримки 
НТБ ВНТУ