Спосіб нанесення покриттів і пристрій для його здійснення

Abstract

Спосіб нанесення покриттів включає очищення підкладки, іонізацію робочого середовища в плазмовому джерелі іонів, витягування, прискорення, розшарування іонного потоку на окремі пучки, фокусування їх, пропускання пучків через магнітну відхиляючу систему, осадження іонного потоку на підкладці. Пристрій для нанесення покриттів містить плазмове джерело іонів у вигляді магнетронної розрядної системи з холодним катодом або катодом, що випаровується, підкладку, розшаровувач іонного потоку, магнітна відхиляюча система.

Способ нанесения покрытий включает очистку подкладки, ионизацию рабочей среды в плазменном источнике ионов, вытягивание, ускорение, расслоение ионного потока на отдельные пучки, фокусирование их, пропускание пучков через магнитную отклоняющую систему, осаждение ионного потока на подкладке.

Устройство для нанесения покрытий содержит плазменный источник ионов в виде магнетронной разрядной системы с холодным катодом или испаряющимся катодом, подкладку, расслаиватель ионного потока, магнитную отклоняющую систему.

A method to apply coating includes cleaning of a plate, ionization of working medium in the plasma source of ions, stretching, acceleration, stratifying of ion beam to separated fascicles, their focusing, their processing through a magnetic declining system, precipitation of the ion beam on the substrate.

A device to apply coating contains a plasma source of ions shaped as a magnetron discharge system with a cool cathode or with an emitting cathode, a plate, an appliance stratifying the ion beam, a system of magnetic declination.