Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення

Abstract

Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить лазер, конденсор, поворотне дзеркало, діафрагму та плазмовий реактор з пластинками (зразками) і оптичним вікном, фотоперетворювач. Фотоперетворювач містить фоторезистор, біполярний та польовий транзистори, індуктивність, ємність і два джерела постійної напруги.

Предлагаемое устройство для определения момента времени окончания процесса плазменного травления содержит лазер, конденсор, поворотное зеркало, диафрагму, плазменную камеру с оптическим окошком и фотоэлектрический преобразователь. Фотоэлектрический преобразователь содержит фоторезистор, биполярный транзистор, полевой транзистор, катушку индуктивности, конденсатор и два источника постоянного напряжения.

The proposed device for determining the instant of the termination of plasma etching process contains a laser, a condenser, a rotary reflector, a diaphragm, a plasma chamber with an optical window, and a photoelectric converter. The photoelectric converter contains a photoresistor, a bipolar transistor, a field-effect transistor, an inductance coil, a capacitor, and two direct voltage sources.