Показати скорочену інформацію

dc.contributor.authorНовіков, Анатолій Олександровичuk
dc.contributor.authorНовиков, Анатолий Александровичru
dc.contributor.authorNovikov, Anatolii Oleksandrovychen
dc.date.accessioned2015-12-11T10:26:40Z
dc.date.available2015-12-11T10:26:40Z
dc.date.issued2009-05-12
dc.identifier41317
dc.identifier.citationПат. 41317 UA, МПК C01B 33/02. Спосіб виготовлення кремнію і шарів з нього [Текст] / А. О. Новіков (Україна). - № u200900493 ; заявл. 23.01.2009 ; опубл. 12.05.2009, Бюл. № 9. - 3 с.uk
dc.identifier.urihttp://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2614
dc.description.abstractСпосіб виготовлення кремнію і шарів з нього включає генерування газової плазми в реакторі за допомогою електродів, інжектування в нього сировини, яка містить кремнезем і відновлювач. Генерування плазми здійснюють запалюванням між електродами високовольтного тліючого розряду. Сировину, що містить кремнезем, або виріб з неї поміщають у катодну зону високовольтного тліючого розряду і опромінюють потоком іонів та швидких атомів, що утворюються в високовольтному тліючому розряді, а також потоком квантів від джерела випромінювання. В плазмову зону високовольтного тліючого розряду подають технологічний газ та відновлювач, що містить вуглеводень.uk
dc.description.abstractСпособ изготовления кремния и слоев из него включает генерирование газовой плазмы в реакторе с помощью электродов, инжектирование в него сырья, содержащего кремнезем и восстановитель. Генерирование плазмы осуществляют запаливанием между электродами высоковольтного тлеющего разряда. Сырье, содержащее кремнезем, или изделие из него помещают в катодную зону высоковольтного тлеющего разряда и облучают потоком ионов и быстрых атомов, образующихся в высоковольтном тлеющем разряде, а также потоком квантов от источника излучения. В плазмовую зону высоковольтного тлеющего разряда подают технологический газ и восстановитель, содержащий углеводород.ru
dc.description.abstractA process for silicon production and layers thereof comprises the generation of gaseous plasma in a reactor using electrodes, injecting of raw material, containing silica and reducing agent, into silicon. The generation of plasma is carried out by firing of high voltage glow discharge between the electrodes. The raw material, containing silica, or product of it, is placed into the cathode zone of high voltage glow discharge and irradiated by ion and fast atoms flow, being formed in high voltage glow discharge, and also by quanta flow from the radiation source. Process gas and reducing agent, containing hydrocarbon, are supplied into the plasma zone of high voltage glow discharge.en
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherДержавне підприємство "Український інститут промислової власності" (УКРПАТЕНТ)uk
dc.subjectC01B 33/02
dc.subjectплазмове одержання кремніюuk
dc.subjectвиробництво сонячних елементівuk
dc.subjectшари кремніюuk
dc.titleСпосіб виготовлення кремнію і шарів з ньогоuk
dc.title.alternativeСпособ изготовления кремния и слоев из негоru
dc.title.alternativeProcess for silicon production and layers thereofen
dc.typePatent


Файли в цьому документі

Thumbnail

Даний документ включений в наступну(і) колекцію(ї)

Показати скорочену інформацію