Показати скорочену інформацію

dc.contributor.authorКравченко, Юрій Степановичuk
dc.contributor.authorДаниленко, Олена Олександрівнаuk
dc.contributor.authorКравченко, Юрий Степановичru
dc.contributor.authorKravchenko, Yurii Stepanovychen
dc.date.accessioned2015-12-10T08:04:10Z
dc.date.available2015-12-10T08:04:10Z
dc.date.issued2005-01-17
dc.identifier4413
dc.identifier.citationПат. 4413 UA, МПК H01L 21/302. Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення [Текст] / С. Ю. Кравченко, О. О. Даниленко (Україна). - № u20040503420 ; заявл. 06.05.2004 ; опубл. 17.01.2005, Бюл. № 1. - 2 с. : кресл.uk
dc.identifier.urihttp://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2586
dc.description.abstractПристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення містить вузькосмуговий інтерференційний фільтр, фотоперетворювач, фотодіод, резистор, біполярний та польовий транзистори, індуктивність, ємність і два джерела постійної напруги.uk
dc.description.abstractПредлагаемое устройство для определения момента времени завершения процесса плазменного травления содержит узкополосный интерференционный фильтр, фотоэлектрический преобразователь, фотодиод, резистор, биполярный и полевой транзисторы, катушку индуктивности и два источника постоянного напряжения.ru
dc.description.abstractThe proposed device for determining the end of plasma etching process contains a narrow-band interference filter, a photoelectric converter, a photodiode, a resistor, a bipolar transistor, a field-effect transistor, an inductance coil, and two direct voltage sources.en
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherДержавне підприємство "Український інститут промислової власності" (УКРПАТЕНТ)uk
dc.subjectHO1L 21/3O2
dc.subjectелектронна технікаuk
dc.subjectконтроль плазмових процесівuk
dc.subjectавтоматичне керування технологічними процесамиuk
dc.titleПристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травленняuk
dc.title.alternativeУстройство для определения момента времени завершения процесса плазменного травленияru
dc.title.alternativeDevice for determining the end of plasma etching processen
dc.typePatent


Файли в цьому документі

Thumbnail

Даний документ включений в наступну(і) колекцію(ї)

Показати скорочену інформацію