• English
    • українська
  • English 
    • English
    • українська
  • Login
View Item 
  • Frontpage
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • View Item
  • Frontpage
  • Патенти, авторські свідоцтва
  • Факультет інформаційних електронних систем
  • View Item
Сайт інституційного репозитарію ВНТУ містить роботи, матеріали та файли, які були розміщені докторантами, аспірантами та студентами Вінницького Національного Технічного Університету. Для розширення функцій сайту рекомендується увімкнути JavaScript.

Спосіб виготовлення кремнію і шарів з нього

Author
Новіков, Анатолій Олександрович
Новиков, Анатолий Александрович
Novikov, Anatolii Oleksandrovych
Date
2009-05-12
Metadata
Show full item record
Collections
  • Факультет інформаційних електронних систем [684]
Abstract
Спосіб виготовлення кремнію і шарів з нього включає генерування газової плазми в реакторі за допомогою електродів, інжектування в нього сировини, яка містить кремнезем і відновлювач. Генерування плазми здійснюють запалюванням між електродами високовольтного тліючого розряду. Сировину, що містить кремнезем, або виріб з неї поміщають у катодну зону високовольтного тліючого розряду і опромінюють потоком іонів та швидких атомів, що утворюються в високовольтному тліючому розряді, а також потоком квантів від джерела випромінювання. В плазмову зону високовольтного тліючого розряду подають технологічний газ та відновлювач, що містить вуглеводень.
 
Способ изготовления кремния и слоев из него включает генерирование газовой плазмы в реакторе с помощью электродов, инжектирование в него сырья, содержащего кремнезем и восстановитель. Генерирование плазмы осуществляют запаливанием между электродами высоковольтного тлеющего разряда. Сырье, содержащее кремнезем, или изделие из него помещают в катодную зону высоковольтного тлеющего разряда и облучают потоком ионов и быстрых атомов, образующихся в высоковольтном тлеющем разряде, а также потоком квантов от источника излучения. В плазмовую зону высоковольтного тлеющего разряда подают технологический газ и восстановитель, содержащий углеводород.
 
A process for silicon production and layers thereof comprises the generation of gaseous plasma in a reactor using electrodes, injecting of raw material, containing silica and reducing agent, into silicon. The generation of plasma is carried out by firing of high voltage glow discharge between the electrodes. The raw material, containing silica, or product of it, is placed into the cathode zone of high voltage glow discharge and irradiated by ion and fast atoms flow, being formed in high voltage glow discharge, and also by quanta flow from the radiation source. Process gas and reducing agent, containing hydrocarbon, are supplied into the plasma zone of high voltage glow discharge.
 
URI:
http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2614
View/Open
41317.pdf (122.0Kb)

Institutional Repository

FrontpageSearchHelpContact UsAbout Us

University Resources

JetIQLibrary websiteUniversity websiteE-catalog of VNTU

Browse

All of DSpaceCommunities & CollectionsBy Issue DateAuthorsTitlesSubjectsTypePublisherLanguageUdcISSNPublicationDOIThis CollectionBy Issue DateAuthorsTitlesSubjectsTypePublisherLanguageUdcISSNPublicationDOI

My Account

LoginRegister

Statistics

View Usage Statistics

ISSN 2413-6360 | Frontpage | Send Feedback | Help | Contact Us | About Us
© 2016 Vinnytsia National Technical University | Extra plugins code by VNTU Linuxoids | Powered by DSpace
Працює за підтримки 
НТБ ВНТУ